黑碳化矽 (SiC) 是一種堅硬的磨料，常用於拋光和研磨應用，包括銅的拋光。以下是如何有效地使用它來進行銅拋光：
銅拋光用黑碳化矽的性能
硬度（9.5 莫氏）：有效去除氧化物、刮痕和瑕疵。
鋒利且有稜角的顆粒：提供強力的材料去除，同時保持良好的表面光潔度。
熱穩定性和化學穩定性：抵抗拋光過程中的熱積聚和化學反應。
銅拋光中的應用
初步粗拋光
使用粗砂（例如#80–#220）去除銅表面的深層刮痕、毛邊或鏽蝕。
適用於更精細的拋光階段之前的機械研磨。
中級拋光
中等粒度（例如#320-#600）可改善表面，為最終拋光做好準備。
常用於磨料膏、研磨劑或塗層磨料帶/盤。
最終精細拋光（不太常見）
非常細的砂礫（例如，#800–#1200）可用於獲得更光滑的表面，但對於鏡面表面，可能更喜歡使用較軟的磨料（如氧化鋁或鑽石）。
用於銅拋光的黑色碳化矽的型態
鬆散磨料粉：與油或水混合形成研磨劑。
塗附磨料（砂紙、砂帶、砂盤）：用於手動或機器拋光。
黏合磨料（砂輪、磨石）：用於去除大量毛坯。
漿料/糊劑：適用於精密研磨應用。
優於其他磨料
比氧化鋁或石榴石更快去除材料。
對於初始階段來說，比鑽石磨料更具成本效益。
比較軟的磨料能更長時間保持鋒利。
限制
如果不使用更細的磨料，可能會留下更深的刮痕。
對於實現高光澤鏡面效果來說並不理想（氧化鋁或鑽石等較軟的磨料更適合最後階段）。
使用 SiC 進行銅拋光的最佳實踐
首先使用粗砂 （例如#120–#220）去除主要瑕疵。
逐漸使用較細的砂礫 （例如#400–#800）來使表面光滑。
使用較軟的磨料 （例如氧化鋁或氧化鈰）進行鏡面拋光。
使用潤滑劑 （水或油）防止過熱並提高成品品質。
在步驟之間進行清潔 以避免被粗砂礫污染。
銅的替代拋光方法
電解拋光：為了獲得光滑、抗氧化的表面。
化學拋光：使用酸或專用銅拋光劑。
鑽石化合物：用於超精細加工。