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坩堝用黑碳化矽

 碳化矽 (SiC)因其卓越的熱性能、機械性能和化學性能, 被廣泛用於製造 坩堝。 SiC 坩堝在高溫應用中尤其重要,例如金屬熔化、晶體生長(例如矽錠)和化學加工。下文將詳細介紹 SiC 坩堝,包括其優勢、類型、製造方法和應用。


1. 為什麼要用碳化矽做坩堝?

SiC坩堝的主要特性:

  • 高熱導率 (~120 W/m·K)-確保均勻加熱和高效傳熱。

  • 優異的抗熱震性 -可承受快速的溫度變化而不破裂。

  • 高熔點 (~2,700°C)-適用於極端溫度製程。

  • 化學惰性 -抵抗熔融金屬(如鋁、銅、鋅)和酸性/鹼性環境的腐蝕。

  • 機械強度 -硬度(~9.5 莫氏)和剛性可防止負載下變形。

  • 使用壽命長 – 在許多應用中比石墨或黏土石墨坩堝更耐用。

2. SiC坩堝的種類

(A)燒結碳化矽(SSiC)坩堝

  • 採用  高純度SiC粉末經無壓燒結 或 熱壓而成。

  • 優點:密度高、機械強度高、導熱性優良。

  • 應用:半導體晶體生長(例如矽單晶)、高純度金屬熔煉。

(B)反應燒結碳化矽(RB-SiC)坩堝

  • 透過用熔融矽滲透多孔碳預製體,透過反應形成 SiC 而產生。

  • 優點:成本比SSiC低,抗熱震性佳。

  • 缺點:含有遊離矽(~8-15%),在某些環境下耐化學性降低。

  • 應用:有色金屬熔煉(例如鋁、黃銅)。

(C)黏土結合碳化矽坩堝

  • 由碳化矽顆粒與黏土黏合劑混合後燒製而成。

  • 優點:更便宜,更容易製造。

  • 缺點:與純SiC相比,熱導率和強度較低。

  • 應用:熔化有色金屬的鑄造廠。


3. SiC坩堝的製造工藝

  1. 粉末製備:選用高純度SiC粉末(一般為α-SiC,用於燒結)。

  2. 成型

    • 等靜壓 (用於 SSiC)或 註漿成型 (用於 RB-SiC)。

    • 對於粘土坩堝,採用傳統的壓製或擠壓工藝。

  3. 燒結/反應結合

    • SSiC:在惰性氣氛下以~2,000°C 的溫度燒結。

    • RB-SiC:與矽接觸加熱至約 1,600°C。

  4. 加工和精加工:研磨至精確尺寸。

  5. 品質控制:密度、孔隙率和抗熱震性測試。


4. SiC坩堝的應用

產業應用首選 SiC 類型
冶金熔化鋁、銅、鋅合金RB-SiC,黏土結合
半導體生長矽/砷化鎵晶體SSiC(高純度)
珠寶/玻璃貴金屬鑄造、玻璃熔煉RB-SiC、SSiC
化學腐蝕化學反應SSiC(高電阻)

5. 與其他坩堝材料的比較

材料最高溫度熱衝擊耐化學性成本
碳化矽(SSiC)~2,700°C出色的出色的高的
石墨~3,000°C好的差(在空氣中氧化)中等的
氧化鋁(Al₂O₃)~1,800°C緩和好的低的
石英~1,200°C貧窮的優秀(但易碎)中等的

→ 當高抗熱衝擊性和耐用性至關重要時,SiC 是首選。

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